產(chǎn)品 / 多肽
多肽抗原為半抗原，必須與載體偶聯(lián)形成完全抗原才可以進(jìn)行動(dòng)物免疫。多肽抗原方案制備抗體核心是多肽選取與抗原表位的設(shè)計(jì)； 多肽設(shè)計(jì)前首先對(duì)抗原蛋白進(jìn)行系統(tǒng)分析，并遵循外源性原則、特異性原則、親水性原則、C末端性原則、結(jié)構(gòu)原則、氨基酸原則、連接臂原則、長(zhǎng)度原則、純度原則等進(jìn)行設(shè)計(jì)。
多肽準(zhǔn)備
| 服務(wù)范圍 | 服務(wù)內(nèi)容 | 周期 | 交付內(nèi)容 |
| 多肽設(shè)計(jì) | 特異性抗原肽設(shè)計(jì) | 1~2天 | 根據(jù)要求提供：粗肽、脫鹽、＞70%、＞80%、＞90%、＞95%、＞98%、＞99%等不同純度范圍的多肽；各種修飾肽，偶聯(lián)肽 |
| 普通線性肽 | 鏈長(zhǎng)至189個(gè)氨基酸，毫克至千克級(jí)，純度可達(dá)99% | 2~4周 | |
| 簡(jiǎn)單修飾肽 | N端乙?；?，C端酰胺化 | 2~4周 | |
| 復(fù)雜修飾肽 | 熒光標(biāo)記肽，同位素標(biāo)記，訂書肽，脂肪酸修飾肽，磷酸化修飾肽，環(huán)肽，生物素標(biāo)記肽，復(fù)合抗原肽，螯合劑，小分子化合物，PEG修飾，熒光淬滅基團(tuán)標(biāo)記，甲基化修飾，光敏劑修飾，DOTA，NOTA，DOPA，疊氮修飾，兩支不同序列的分支肽，兩條不同序列多肽之間的多對(duì)二硫鍵等 | 4~6周 | |
| 含特殊氨基酸肽 | 含有D型氨基酸及各種氨基酸衍生物 | 2~4周 | |
| 多肽偶聯(lián) | KLH，BSA，OVA | 2~4周 |
多肽合成及質(zhì)量驗(yàn)證圖
Fig 1. 多肽合成技術(shù)路線
Fig 2. 抗原表位分析(A) 和親疏水性分析(B)
A.抗原表位分析 B.親疏水性分析
Fig 3. 質(zhì)譜分析圖譜修飾分類
N端乙?；揎棧珻端酰胺化修飾，熒光標(biāo)記，同位素標(biāo)記，訂書肽，脂肪酸修飾，磷酸化修飾，環(huán)肽，生物素標(biāo)記，復(fù)合抗原肽，螯合劑，小分子化合物，PEG修飾，熒光淬滅基團(tuán)標(biāo)記，甲基化修飾，光敏劑修飾，DOTA，NOTA，DOPA，疊氮修飾